磁控溅射是一种磁控运行模式的二次溅射。此种技术广泛应用于镀膜设备上，它不仅适用于广泛的镀膜靶材（如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料），而且镀膜时还可大幅度提高膜层的附着力、重复性、致密度和均匀度。磁控溅射镀膜设备主要是使用直流磁控溅射，常需要2路输出稳定的直流电源，设定一个电压值后，要求快速响应到电压的设定值。电源使用过程中必须保持稳定性，电压数值不能受负载影响
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